순번

장비명

장비 위치

사용용도

요율(원)

1

ICP-PECVD

클린룸

절연막 (SiO2, SiNx, SiNOx) 박막 증착

150,000/wf

2

HNB-PECVD

클린룸

반도체 박막 증착/수소이온 주입

150,000/wf

3

PECVD

클린룸

무기박막 (a-Si, n+ Si, SiNx, SiO2, SiNOx) 증착

150,000/wf

4

PEALD

클린룸

무기박막 (AlOx, SiOx) 증착

200,000/wf

5

4-Gun Metal Sputter (1)

클린룸

금속 박막 증착

130,000/wf

6

4-Gun Oxide Sputter (2)

클린룸

산화물 박막 증착

150,000/wf

7

4-Gun Sputter (3)

클린룸

기능성 박막 증착

150,000/wf

8

Sputter ULVAC

클린룸

기능성 박막증착

150,000/wf

9

MFSS Sputter (1) with Glove Box

클린룸

저손상 ITO 박막 증착

150,000/wf

10

MFSS Sputter (2)

클린룸

산화물 반도체 박막 증착

150,001/wf

11

Thermal Evaporator (1)

클린룸

기능성 유기/금속 박막 증착

70,000/회

12

Thermal Evaporator (2)

클린룸

기능성 박막 증착

70,000/회

13

ECR-RIE dry etcher

클린룸

Cu 포함 금속박막 건식 식각

130,000/wf

14

ICP-RIE etcher

클린룸

금속 및 산화물 건식 식각

110,000/wf

15

CCP-RIE dry etcher

클린룸

무기박막 (Si, SiO2, SiNx, SiNOx) 건식 식각

110,000/wf

16

Ion Milling

클린룸

박막 건식 식각

110,000/wf

17

OLED 증착기

클린룸

OLED 소자 제작

200,000/wf

18

Glove Box (글로브 박스)

클린룸

유기소재 공정

100,000/wf

19

UV Aligner 노광기

클린룸내 옐로우룸

Photolitho Pattern 형성

100,000/기본+40,000/wf

20

Spin coater (다수 보유)

클린룸내 옐로우룸

PR 도포

100,000/기본+15,000/wf

21

Dispenser

클린룸내 옐로우룸

용액 도포

100,000/기본+15,000/wf

22

RTA

클린룸내 옐로우룸

소자 Annealing

70,000/wf

23

Vacuum Oven

클린룸내 옐로우룸

소자 Annealing

70,000/wf

24

Plate Oven

클린룸내 옐로우룸

소자 Annealing

70,000/wf

25

Furnace

클린룸

소자 Annealing

280,000/회

26

Vacuum annealing furnance

클린룸

시료 열처리

280,000/회

27

진공 합착기

클린룸

스트레쳐블 기판 합착

100,000/기본+15,000/wf

28

UV-VIS spectrometer

클린룸

흡광도측정

100,000/hr