Mask Aligner&Exposure System(MAD-400S)
  • 작성일 2019.04.23
  • 작성자 관리자
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기기분류 기계가공/시험장비
▷반도체장비
▷리소그래픽장비
기기명 Mask Aligner&Exposure System
자외선 조사 미세패턴 형성기
모델명 MDA-400S
제조회사 마이다스
구입년도 2014.02
사용료(내부사용자) 20,000원/시간
사용료(외부사용자) 40,000원/시간

시설 장비 설명 - 본 장비는 반도체/Display등의 공정 중에서 Photo Lithography 공정을 수행하는 시스템으로서 wafer 위의 다양한 물질에 Circuit pattern을 형성시키는 것을 목적으로 함
- 미세회로를 구현하기 위해 균일도가 높은 자외선 광원을 사용
- 공정이 다층으로 이루어지므로 정밀한 Align과 Leveling 등 각종 첨단 기술의 시스템
- 다층 구현 시 샘플 패턴과 마스크 패턴을 정확기 정렬시키는 정확도가 높음
- 마스크와 샘플을 접촉 시키지 않고 공정을 진행시 그 갭을 측정하는 센서가 있고, 그 갭의 치수를 정확히 디스플레이 함
- Wedge Error Compentsation 기능으로 정화간 마스크의 오차를 보상
- 노광 타이머가 0.1초 단위로 설정 가능하며 정확한 에너지를 설정 가능
- 포토마스크 정렬(photomask alignment) 및 자외선 노광을 이용하여 포토마스크에 형성된 소자의 미세패턴을 최대 직경 6인치 면적의 웨이퍼 표면에 도포된 포토레지스트(PR) 층으로 정밀하게 전사하photolithography 공정장비
- UV를 이용하여 다양한 감광제에 마스크로 미리 정의된 마이크로 미터 수준의 미세패턴을 전사함
- 마이크로 미터 수준의 미세 패턴을 다양한 기판 위에 형성
구성 및 성능 * 구성 : Mask aligner 에 구성되는 주요 부품들은 정렬 및 노광에 맞는 종류들로 구성한다.
A. Light source module
   -Lamp type : Mercury Short arc lamp (350W)
   -Wavelength : 350nm to 450nm
   -Max. beam size : 6.25 in. x 6.25in.
   -365nm Intensity : > max 25 mW/cm2
   -Beam uniformity : <±3% (4in.)
B. Microscope
   - Dual CCD zoom microscope
   - Manual moving stage : Dual X, Y, Z axis
   - Objective spacing : 60 ~ 100mm
   - Move range : Y Axis ± 20 mm
   - 19” LCD Monitor
   - Magnification : 90x ~500x
   - Working distance : 86 mm / 32 mm
     Micro Scope 2x Attachment 180x~1000x
C. Stage and controller module
   - Exposure timer : 0.1 sec to 6000sec
   - Stage movement : X,Y,Z and Theta
     X, Y : 10 mm,
     Theta : ±4°
     Z Motion travel : 10 mm
   - Contact mode : Vacuum, Hard, Soft Contact & Proximity(Gap controllable)
     Vacuum & Hard contact (Force controllable)
   - Alignment accuracy : <±1.0 micron
   - Vacuum / Pneumatic Controls :
     Substrate, Mask, Chuck lock & Contact
D. Resolution
   - Vacuum Contact : 1um < Thin PR(Thickness1um) @ Full size Si Wafer>
   - Hard (Pressure) Contact : 2um
   - Soft contact : 3um
   - 20um Proximity : 5um
사용/활용 예 실리콘 기판 위에 패턴된 금속 전극 형성
실리콘 기판 위에 패턴의 식각
그래핀의 미세패턴 식각
고분자 필름의 패턴
전자빔묘화 공정을 위한 marker system 의 패턴
다층 패턴의 정렬
오퍼레이터 서동민 Tel. [대표번호] 044-860-1309
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